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文檔簡介
1、隨著半導體工藝的發(fā)展,流水線ADC的設計正向全數字結構的校準方向發(fā)展,因此使得功耗、誤差估計、設計難度、芯片面積等有了很大的改善。尤其是在亞微米級、深亞微米級和納米級的CMOS工藝下,可以采用大規(guī)模的數字校準技術,使得模擬電路的性能要求和設計難度大大降低。因此,目前在很多流水線ADC設計中,大多都引入了數字校準技術,并且這種趨勢會在今后會更加明顯。
首先,分析了流水線ADC的結構,總結了ADC的性能指標,對非理想因素建立了誤差
2、模型,包括比較器失調誤差、子DAC誤差、ADC失調誤差、運放增益誤差、運放非線性誤差。然后,根據近十年來的國內外研究成果,總結了流水線ADC的數字校準技術,并將其分類為五大類:碼域均衡、分裂法、跳補法、離線法和PN注入,并分別對每種技術做出了優(yōu)缺點分析。
同時,本文還研究了一種BLMS的數字校準算法,該校準技術能夠在后臺模式下,自適應的校準流水線ADC的線性和非線性誤差。結合一個200MS/s的流水線ADC,仿真結果顯示,在輸
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