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1、該文將圍繞這些問題分別從理論、制備工藝和測(cè)試方法上進(jìn)行探討在理論上,研究了射頻磁控濺射法制備薄膜均勻性的問題,基于濺射產(chǎn)額和出射角分布建立靶原子散射模型,考慮到濺射設(shè)備系統(tǒng)工藝條件情況,對(duì)濺射粒子的運(yùn)輸過程進(jìn)行模擬,得到磁控濺射設(shè)備制備薄膜均勻性分布情況.測(cè)試方面,介紹了橢圓偏振儀測(cè)試薄膜光學(xué)參數(shù)的原理,對(duì)薄膜光學(xué)參數(shù)的兩種常用的計(jì)算方法進(jìn)行了討論.比較了采用遺傳算法和采用蒙特卡羅方法來計(jì)算橢偏儀測(cè)試結(jié)果的各自特點(diǎn).在腔鏡高反膜系的研究
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