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1、浙江大學(xué)碩士學(xué)位論文硅基GaN歐姆接觸及紫外探測(cè)器的研究姓名:李嘉煒申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專(zhuān)業(yè):材料物理與化學(xué)指導(dǎo)教師:葉志鎮(zhèn)2002.6.1浙江大學(xué)碩士學(xué)位論文硅基GaN歐姆接觸及紫外探測(cè)器的研究AbstractThisworkwassuppoaedbyTalentsAcrosstheCenturyoftheMinistryofEducationofChinaandNationalNaturalScienceFoundationofChi
2、naunderGrantNo69890230Thetitleofthisprojectis‘‘GrowthofGaNonsubstratesiliconanditsapplications”Inrecentyears,GalliumNitrideasawidebandgapsemiconductorhasattractedmoreandmoreattentionandadvancedrapidly,mainlyduetoitspromi
3、singapplicationsinshortwavelightemittingdevices,photodetectors,aswellasanti—radiation,highfrequencyandhighpowerelectronicdevicesUptodate,itisstillveryhardtogrowGaNbulkcrystals,sotheheteroepitaxialgrowthofhighqualityGaNth
4、infilmsisthepremiseforthedevelopmentofGaNbaseddevicesAtthesametime,therapidprogressondevicesrequiresbeRerohmiccontactbetweenmetalsandGaN,somuchmoreresearchworkmnstbecarriedoutatonceInthispaper,wefirstpresentedacomprehens
5、ivereviewoftheresearchhistoryandcurrentstatusofGaNmaterialpreparationandcharacterizationsOnthebasisofourrenovatedHWBEsystem,weconductedadetailedstudyofGaNepitaxyInaddition,theprimaryinvestigationofthispaperistheohmiccont
6、actbetweenmetalsandGaN,andwemadephotodetectorsbasedonGaN/SiThemainworkincludethreecontentsasfollowing:1、Forthefirsttime,wereportedwurtzitesinglecrystallineGaNonSi(111)substratesusingpolycrystallineGaNasabufferlayerinaver
7、ysimplereactiveevaporationtechniquebyHWBE2、WeresearchedthesituationofohmiccontactbetweenAlelectrode、Ti/AlelectrodeandnGaNwithdifferentannealingconditionsByusingXRDandSIMSanalyticmethods,weputupanewconceptaboutelectrodean
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