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文檔簡介
1、本文通過對蒙脫土和納米SiO<,2>表面改性,采用陰離子聚合法分別制備了MC尼龍/蒙脫土納米復合材料和MC尼龍/SiO<,2>納米復合材料,利用X射線衍射、紅外光譜、熱失重分析和力學性能測試等手段研究和分析材料的結構和性能。 結果表明,蒙脫土經不同改性劑處理后,層間距有所增大。蒙脫土在MC尼龍結晶過程中起到了異相成核的作用,促進了γ晶型的生成,并且,隨蒙脫土含量的增加,γ晶型的衍射峰逐漸增強。硅烷偶聯(lián)劑KH-550可以提高蒙脫土
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