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1、ZnO是一種新型的Ⅱ-Ⅵ族寬禁帶化合物半導(dǎo)體材料,不僅光電性能優(yōu)異、化學(xué)穩(wěn)定性好、熱穩(wěn)定性高,且易于摻雜形成性能更為優(yōu)異的材料,因而在太陽(yáng)能電池、液晶顯示器、短波長(zhǎng)發(fā)光器件等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。 Zn0薄膜的制備技術(shù)有多種,相比較而言,溶膠.凝膠(sol-gel)法具有成膜均勻性好、與襯底附著力強(qiáng)、易于原子級(jí)摻雜及工藝簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。本論文采用溶膠-凝膠法,用旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)在玻璃基底上進(jìn)行了摻釔氧化鋅(YZO)薄膜的制備、摻雜等
2、相關(guān)內(nèi)容研究。主要研究了陳化時(shí)間、摻雜濃度、預(yù)處理溫度、退火溫度以及鍍膜層數(shù)對(duì)薄膜的結(jié)晶狀況、表面形貌、電阻率和透光率等的影響,探討了溶膠.凝膠法制備YZO薄膜過程中,YZO薄膜的晶體結(jié)構(gòu)與透射率、禁帶寬度及導(dǎo)電性能之間的關(guān)系。研究結(jié)果如下: (1)差熱分析結(jié)果表明釔摻雜對(duì)ZnO薄膜的形成過程沒有影響,且不存在與釔元素相關(guān)的相變,即摻入的釔大部分進(jìn)入晶格。 (2)晶體結(jié)構(gòu)分析表明:所制備的YZO薄膜呈六角纖鋅礦結(jié)構(gòu),且表
3、現(xiàn)出(002)晶面的取向性生長(zhǎng)。其中YZO薄膜最佳的制備條件是:Y摻雜濃度為0.5at%、陳化時(shí)間為72h、預(yù)處理溫度為300℃、退火溫度為500℃、涂覆5層,其(002)晶面的衍射峰最強(qiáng)、半高寬最小,即結(jié)晶性和c軸擇優(yōu)取向性最好。而Y摻雜濃度的增加將使得晶粒粒徑減小,薄膜的結(jié)晶性能下降。 (3) AFM分析表明YZO薄膜表面均勻致密,陳化時(shí)間的延長(zhǎng)有利于薄膜的取向生長(zhǎng),同時(shí)粗糙度增大。 (4)透射光譜表明:所制備的YZ
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