聚合物復(fù)合薄膜的光學(xué)與非線性光學(xué)性能的研究.pdf

1、山東大學(xué)碩士學(xué)位論文聚合物復(fù)合薄膜的光學(xué)與非線性光學(xué)性能的研究姓名：楊洪亮申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：碩士專業(yè)：光學(xué)工程指導(dǎo)教師：任詮20030418l山東大學(xué)碩士學(xué)位論文摘要為滿足現(xiàn)代光通訊、光信息處理等應(yīng)用領(lǐng)域的需要，光電子器件正朝著小型化、集成化的方向發(fā)展。電光聚合物復(fù)合薄膜材料具有響應(yīng)速度快、電光系數(shù)大、透過(guò)波段寬、制備簡(jiǎn)單、成本低廉，易于集成等不可比擬的優(yōu)點(diǎn)，作為全光網(wǎng)絡(luò)等技術(shù)中的關(guān)鍵器件，正受到人們?cè)絹?lái)越多的重視，是當(dāng)今非線性光學(xué)領(lǐng)域研究

2、的熱點(diǎn)之一。電光聚合物復(fù)合薄膜具有廣闊的市場(chǎng)應(yīng)用前景，因此對(duì)這種材料的設(shè)計(jì)、制各及性能表征己成為薄膜光電子學(xué)的主要研究?jī)?nèi)容之一。電光薄膜材料的器件化研究也大大推進(jìn)了材料研究工作的深入開展。器件化過(guò)程也對(duì)聚合物復(fù)合材料提出了尖銳的問(wèn)題，即穩(wěn)定性差、光損耗大和電光活性低的問(wèn)題。本文針對(duì)這些問(wèn)題，從理論上和實(shí)驗(yàn)上研究了電光聚合物復(fù)合薄膜的線性和非線性光學(xué)性能：建立并完善了測(cè)試和表征薄膜的光學(xué)性能、電光性能、介電性能、光傳輸特性及穩(wěn)定性等的一系

3、列方法。表征電光薄膜材料可實(shí)用化的關(guān)鍵性能參數(shù)是電光優(yōu)值E(‘=n3，／‘)和傳輸損耗。電光優(yōu)值越大，傳輸損耗越小，則這種材料的性能越好。這就要求薄膜材料具有大的電光系數(shù)y、大的折射率“、低的介電常數(shù)s，和低的傳輸損耗。建立弗完善研究薄膜的這些宏觀性能的測(cè)量手段對(duì)于材料的設(shè)計(jì)和研制具有重要的指導(dǎo)意義。本文采用電容電橋法研究了聚合物復(fù)合薄膜的介電譜。首先在聚合物復(fù)合薄膜的上表面采用LDMl500真空濺射儀濺射上一層金膜作為一電極，玻璃襯底