超薄玻璃的固結(jié)磨料研磨拋光研究.pdf

1、超薄玻璃廣泛應(yīng)用于儀器儀表、集成電路以及各種顯示器中，與國(guó)防科技、電子信息、國(guó)民生活息息相關(guān)。為應(yīng)對(duì)超薄玻璃巨大的市場(chǎng)需求，研究超薄玻璃加工工藝，探索快速、高效獲得高材料去除率和表面質(zhì)量的超薄玻璃加工方法非常重要。固結(jié)磨料研磨拋光技術(shù)能以較低的成本獲取較高的加工效率，且工藝的可控性強(qiáng)對(duì)環(huán)境的污染小，適用于超薄玻璃的加工。本文通過(guò)單面和雙面研磨拋光兩種途徑，以材料去除率和表面質(zhì)量為評(píng)價(jià)指標(biāo)，探索超薄玻璃加工工藝，開(kāi)展的主要研究工作和獲得的

2、結(jié)論如下：
　　 (1)開(kāi)展了單面研磨拋光超薄玻璃加工工藝研究。針對(duì)研磨和拋光階段的不同要求，開(kāi)展了不同磨料及粒度對(duì)材料去除率和表面質(zhì)量影響的研究，優(yōu)化選擇W30金剛石固結(jié)磨料研磨墊和3μm的CeO2固結(jié)磨料拋光墊組合對(duì)超薄玻璃進(jìn)行加工，獲得了厚度約為0.2mm，表面無(wú)破損、無(wú)明顯劃痕的超薄玻璃，形成了以單面研磨拋光方式實(shí)現(xiàn)超薄玻璃兩面加工的加工工藝。
　　 (2)開(kāi)展了雙面研磨拋光超薄玻璃加工研究。采用雙面研磨拋光加工

3、超薄玻璃，研究了拋光盤(pán)的轉(zhuǎn)速、拋光液流量、拋光液PH值對(duì)材料去除率和表面質(zhì)量的影響。綜合考慮材料去除率和表面質(zhì)量，選取超薄玻璃研磨階段優(yōu)化的工藝參數(shù)組合為：拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速為60r/min，PH值為10，流量為105ml/min，玻璃上表面的材料去除率小于下表面的材料去除率，而上、下表面的表面質(zhì)量差別不大。選取超薄玻璃拋光階段優(yōu)化的工藝參數(shù)組合為：拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速為30r/min，PH值為10，流量為130ml/min。上拋光盤(pán)的對(duì)玻璃的拋光效果要

4、好于下拋光盤(pán)。
　　 (3)建立了雙面研磨拋光運(yùn)動(dòng)軌跡的數(shù)學(xué)模型，建立了工件與拋光盤(pán)的相對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡方程，分析了參數(shù)對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡分布的影響，并優(yōu)化獲得了均勻的研磨拋光軌跡，得出結(jié)論：工件在行星輪中的位置遠(yuǎn)離行星輪的回轉(zhuǎn)中心，行星輪與整個(gè)拋光盤(pán)半徑比為0.3，拋光盤(pán)的轉(zhuǎn)速是內(nèi)齒輪的轉(zhuǎn)速的1～4倍，內(nèi)外齒輪的轉(zhuǎn)速比在3～8的范圍內(nèi)，工件運(yùn)動(dòng)的軌跡相對(duì)比較復(fù)雜，分布比較均勻，是最優(yōu)的研磨拋光軌跡。
　　 最后，概括了全文的主要結(jié)論